Лабораторная модульная горячеретортная установка для CVD/CVI-осаждения и формирования композиционных матриц

Индивидуальные решения по требованиям заказчика
Проектирование ПК «АКТ»
Производство ПК «АКТ»
Индивидуальные решения по требованиям заказчика
Проектирование ПК «АКТ»
Производство ПК «АКТ»
Лабораторная модульная горячеретортная установка ПК «АКТ» — компактная высокотемпературная система для процессов CVD/CVI в лабораторных условиях. Поворотный нагревательный модуль (0−90°) позволяет работать в вертикальном и горизонтальном исполнении.
Установка применяется в разработке и производстве жаропрочных изделий, композитов, графитированных структур и специальных материалов. Сочетает мощный нагревательный узел, надежную вакуумно-газовую систему и точный цифровой контур управления.
Реактор выполнен в ретортной конструкции, что обеспечивает стабильность температурного поля и высокую равномерность осаждения. Особенность установки — вакуумные весы, позволяющие контролировать прирост массы в реальном времени и оперативно подбирать параметры процесса.
Помимо CVD/CVI процессов, установка предназначена для графитации, спекания, отжига и высокотемпературной обработки углеродных, керамических и тугоплавких материалов в вакууме или инертной атмосфере.
CVD/CVI-технологии
Углеродные материалы
Керамические материалы
Композитные материалы
НИОКР
Аэрокосмос
Характеристики
Назначение
CVD/CVI-осаждение, исследования кинетики, формирование композитных матриц
Тип установки
Модульная горячеретортная CVD/CVI-установка
Тип процесса
CVD / CVI
Ориентация камеры
0–90° с шагом 15°
Реактор
Горячая реторта
Газовые системы
1-, 2-, многокомпонентные
Испарители прекурсоров
Жидкие до 120 °C, твёрдые до 350 °C
Контроль массы
Вакуумные весы (опция)
Материалы
PyC, SiC, BN, ZrN и др.
Система управления
PLC + сенсорная панель (HMI)
Технические
особенности
Работа под углом
Поворот в диапазоне 0−90°
Контроль массы
Вакуумные весы в реальном времени
Гибкая газовая архитектура
Под прекурсоры и термопроцессы
Совместимость с прекурсорами
Применение и подбор разных сред
Высокая чистота процессов
Локальное производство
Модульная конструкция
Собирается под лабораторную задачу
Назначение
1
CVD- и CVI-процессы формирования покрытий и матриц
2
Отработка технологических режимов с разными прекурсорами
3
Исследование кинетики осаждения
4
Осаждение пироуглерода, SiC (MTS/MMS), BN и других материалов
Дополнительные
опции
Вакуумные весы
Взвешивают садку в процессе цикла
Испарители
Подают жидкие и твёрдые реагенты
Многокомпонентные газовые линии
Использование различных газовых сред
Датчики состава атмосферы
Следят за составом газов
Расширенное вакуумирование
Достигает более глубокого вакуума
Интеграция с SCADA и ERP
Передаёт данные для удалённого мониторинга