Установка применяется для CVD-осаждения и CVI-инфильтрации углеродных, керамических и композиционных материалов в одной системе. Слой и матрица формируются из реакционной газовой среды в контролируемом температурном режиме.
CVD формирует функциональные покрытия на поверхности, а CVI инфильтрирует пористые заготовки с образованием композитной матрицы. Температура, давление и состав газов задают повторяемость структуры и свойств.
Универсальная конфигурация подбирается с учётом технологической схемы и набора газовых прекурсоров.