Звонок с инженером
Печь CVD-осаждения покрытий
Индивидуальные решения по требованиям заказчика
Проектирование ПК «АКТ»
Производство ПК «АКТ»
Индивидуальные решения по требованиям заказчика
Проектирование ПК «АКТ»
Производство ПК «АКТ»
CVD (Chemical Vapor Deposition) -осаждение применяется для нанесения плотных, однородных и высокоадгезионных покрытий с заданным химическим составом и толщиной. Слои формируются из газовой фазы при высокой температуре и заданном давлении — в вакууме или контролируемой газовой среде.
Оборудование предназначено для осаждения углеродных, карбидных, нитридных, керамических и функциональных покрытий на металлические, керамические и композиционные подложки.
Тип прекурсоров, давление процесса, температурные режимы и конфигурация камеры подбираются с учётом материала основы, требуемой толщины покрытия и равномерности осаждения.
CVD/CVI-технологии
Композитные материалы
НИОКР
Опытное производство
Авиастроение
Аэрокосмос
Характеристики
Тип процесса
CVD (Chemical Vapor Deposition)
Диапазон температур
800–1400 °C
Рабочая атмосфера
Вакуум / реакционные газы
Рабочее давление
10⁻¹–10⁻³ мбар (по процессу)
Объём загрузки
10–1000 л
Тип камеры
Горизонтальная / вертикальная
Тип нагрева
Электрический, резистивный
Равномерность температуры
±3–5 °C
Система управления
PLC + сенсорная панель (HMI)
Технические
особенности
особенности
Процесс CVD
Химическое осаждение из газовой фазы
Контролируемая среда
Обеспечивает вакуум или пониженное давление реакционных газов
Контроль параметров процесса
Задает температуру, давление и расход газов
Равномерное осаждение
Формирует покрытие по всей поверхности изделия
Подача прекурсоров
Автоматически дозирует газовые компоненты
Многостадийные циклы CVD
Следуют заданной последовательности и программе
Назначение
1
CVD-осаждение покрытий на металлические и керамические изделия
2
Формирование износостойких, термостойких и защитных слоёв
3
Осаждение карбидных, нитридных и углеродных покрытий
4
Получение функциональных покрытий для высокотемпературных применений
5
Проведение CVD-процессов в НИОКР и промышленном производстве
Дополнительные
опции
опции
Массовые расходомеры
Точно задают газовые потоки
Многоступенчатая вакуумная откачка
Форвакуумный и турбомолекулярный насосы
Многозонный контроль температуры
Регулирует нагрев по зонам
Дожигание и газоочистка
Окисляет отходящие газы до CO₂ и воды, очищает отмосферу
Протоколирование параметров
Ведёт журнал по партиям
Интеграция с SCADA и ERP
Передаёт данные для удалённого мониторинга